Kollektorbeschichtungen für die EUV-Lithografie - …
Die Extrem-Ultraviolett-Lithografie (EUVL) bei einer Wellenlänge von 13,5 nm (14-mal kleiner als bei aktuellen Lithografiesystemen) stellt eine innovative Methode dar, integrierte Schaltkreise mit strukturbreiten ≤ 22 nm herzustellen [1].